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张宪(译);
无;
Al2O3涂层; 晶体组织; 化学特性; 显微结构; 生长; 沉积; 受控; CVD;
机译:CVD方法在纯镍和掺ha镍高温合金上沉积的铝化物涂层的显微结构和抗氧化性
机译:CVD TiCXN1-X涂层对用C2H6生长的CVD TiCXN1-X涂层的组织,机械和热物理性质,C2H6作为C饲料前体生长的碳化物基材
机译:沉积温度对CVD SiC涂层生长特性的影响
机译:CVD和MOCVD-生长的Al2O3涂层在碳化物切削工具插入物性能下的比较
机译:使用叔丁醇ha(IV)通过CVD和PECVD沉积的固态晶体管栅极应用的based基高k薄膜的特性表征。
机译:原子层沉积的Al2O3 / HfO2 / Al2O3三层结构在非易失性存储应用中具有出色的电阻切换特性
机译:CVD沉积α-al2O3和TiCxN1-x涂层的微观结构和硬度
机译:通过原子层沉积在生物基包装材料上生长的薄al2O3阻隔涂层(Ohuet Biopohjaisille pakkausmateriaaleille atomikerroskasvatetut al2O3-Barrierpinnoitteet)
机译:具有[0 0 1]涂层κ-Al2O3层的CVD涂层切割工具
机译:物理气相沉积硅氮化物切削刀具用含Al2O3或AL2O3的多层涂层及其制备方法
机译:在发光设备中使用远程等离子体化学气相沉积RP-CVD和溅射沉积生长层的RP-CVD方法
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