The University of Alabama.;
机译:通过溅射和化学溶液沉积氧化物通道铁电栅晶体管应用沉积的氧化铪 - 二氧化锆膜中铁电性的热稳定性
机译:使用HTB(四叔丁醇ha)和IDEAS(四-二甲基氨基硅烷)通过MOCVD适形生长和表征硅酸ha薄膜
机译:溶胶-凝胶旋涂法用于微电子应用的氧化ha和铝酸ha超薄膜的合成与表征
机译:铪钛硅酸盐高k介电膜,使用新型单源前体沉积MOCVD
机译:快速热CVD高k栅极电介质和CVD金属栅电极的技术开发和研究,用于未来的ULSI MOSFET器件集成:氧化锆和氧化ha。
机译:Do掺杂对通过原子层沉积沉积的氧化锌薄膜晶体管中态密度的影响
机译:通过VHF-pECVD和热线CVD沉积的非晶硅薄膜晶体管