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傅颖洁; 李明达;
中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津 300220;
硅外延; 高均匀性; 薄层; 高阻;
机译:高阻(Ga,Fe)As外延层的制备及其磁光性能
机译:多孔硅上电子束蒸发硅和外延层转移制备的绝缘体上硅结构
机译:高迁移率沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的体硅基板上应变硅-锗梯度薄层上的纯锗外延生长
机译:扫描通过快速升华外延制造的硅屑氮化硅固体溶液薄层的近端显微镜研究
机译:载流子寿命测量,用于表征超净p / p +硅外延薄层。
机译:化学溶液沉积法在硅上制备大孔外延石英薄膜
机译:用于开发和表征光伏硅的等离子体工艺的开发:通过PECVD沉积硅的外延薄层:通过LIBS测量固态(20°C)和液态(1414°C)的硅的纯度
机译:四氯化硅的热解组成制备硅外延膜的制备与评价
机译:制备有机硅薄层的方法,有机硅薄层和用途
机译:双极晶体管包括用于高频操作的硅层,第一类型的硅外延层,硅锗外延层和第二类型的硅外延层
机译:制备外延硅锗层的方法和包括外延砷原位掺杂的硅锗层的集成半导体器件
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