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大功率AlGaAs—GaAs激光器干涉镜和减反射膜的制备

         

摘要

分别用磁控溅射和电子束蒸发技术,在大功率AlGaA3-GaA3激光器条端面上,制作了SiO2/Si干涉镜和Al2O3减反射膜。讨论了Si靶反应磁控溅射下,氧化硅层的沉积速率和影响镀层质量的因素。

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