首页> 中国专利> InGaAs/AlGaAs单量子阱及多量子阱半导体激光器有源区外延结构

InGaAs/AlGaAs单量子阱及多量子阱半导体激光器有源区外延结构

摘要

本发明公开了一种InGaAs/AlGaAs单量子阱及多量子阱半导体激光器有源区外延结构,从上到下依次包括GaAs盖层、AlGaAs上势垒层、GaAs上插入层、InGaAs势阱层、GaAs下插入层、AlGaAs下势垒层、GaAs缓冲层、GaAs(100)晶向偏(110)2°的N型衬底。本发明解决了波长为900‑950nm附近的半导体激光器有源区材料体系中InGaAs/GaAs中GaAs禁带宽度小的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN111490456A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 长春理工大学;

    申请/专利号CN202010251389.2

  • 申请日2020-04-01

  • 分类号H01S5/343(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/52(20060101);

  • 代理机构11430 北京市诚辉律师事务所;

  • 代理人范盈

  • 地址 130022 吉林省长春市卫星路7089

  • 入库时间 2023-12-17 11:28:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/343 申请日:20200401

    实质审查的生效

  • 2020-08-04

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号