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吴振龙; 彭建国; 冀明瑞;
珠海方正科技多层电路板有限公司-F7 交付中心 广东 珠海 519175;
高密度连接; POFV覆盖铜; 楔形缺口; 渐薄型;
机译:用于通孔填充和通孔填充的硫酸铜电镀工艺“ Cubelite TFII”
机译:通过硅通孔(TSV)铜填充,在高纵横比中使用三嵌段共聚物作为单一添加剂
机译:由加拿大电子公司Intrinsiq Materials开发的使用纳米铜颗粒糊剂的实用PWB通孔填充工艺
机译:创新的酸性铜工艺可同时填充通孔和电镀通孔
机译:用于三维芯片堆叠应用的填充铜的硅通孔的制造和可靠性测试。
机译:通过通孔应用的大孔阵列的铜选择性电化学填充
机译:用铜填充通孔的胶带载体细间距BGA改善球可焊性的机理
机译:使用金属填充通孔改善LTCC RF和无线多芯片封装中的隔离
机译:通孔填充铜导体糊剂,铜导体通孔填充衬底的制造方法,铜导体通孔填充衬底,电路板,电子部件和半导体封装
机译:用于制造填充铜导电膏的通孔的方法,用于填充基板的铜导体通孔,用于填充基板的铜导体通孔,电路板,电子部件,半导体封装
机译:具有小体积变化率的通孔填充铜导体糊,通过孔填充基质制造铜导体的方法,通孔填充铜导体的导体,电路板,电极,电路板,电极
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