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笑生;
无;
集成电路; 硅; 电子自旋共振; 等离子体; 表面清洗;
机译:在低能量ECR AR等离子体照射下使用SiH4和CH 4反应的Si(100)硅 - 碳合金膜形成
机译:MW-ECR等离子体对多晶硅的有效加氢和表面损伤
机译:MW-ECR等离子体氢化对基于多晶硅膜的太阳能电池的影响
机译:在电子回旋共振(ECR)等离子体反应器中对硅进行六氟化硫蚀刻时的表面反应特性。
机译:制定系统性硬化症的修订分类标准的项目:与全身硬化症的ACR / ECR / ECR / ECR / ECL / ECR / ECR / ECR / ECR / ECR / ECR的共识练习的结果
机译:硅表面清洗程序对硅氧化的影响
机译:ECR等离子体源和ECR等离子体装置
机译:ECR等离子体工作装置和ECR等离子体产生方法
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体蚀刻工艺和ECR等离子体蚀刻设备
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