Silicon; Oxidation; Surface finishing; Cleaning; Wafers; Reaction kinetics; Solutions(Mixtures); Ammonium compounds; Hydroxides; Hydrogen chloride; Hydrogen peroxide; Hydrogen fluoride; Thickness; Refractive index; Silicon dioxide; Density; P type semiconductors;
机译:二氧化硅-硅界面陷阱电荷对单片金属-氧化锌-氮化硅-二氧化硅-硅卷积器性能的影响
机译:表面制备和清洁对高效光伏电池硼扩散硅表面钝化的影响
机译:介电势垒放电对硅表面的影响:表面粗糙度,清洁和氧化
机译:不同湿化学清洗程序在氮化硅沉积之前对太阳能电池性能和表面钝化的影响
机译:二氧化硅/硅RIE之后的原位远程RF等离子体清洁和表面表征。
机译:表面处理的二氧化硅纳米粒子对颌面硅弹性体某些力学性能的影响
机译:硅表面清洗程序对硅氧化的影响