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等离子体; 蚀刻; ICP; 电感耦合型;
机译:在基于扩散泵的O_2电容耦合等离子体和电感耦合等离子体中对PMMA和聚碳酸酯进行干蚀刻的比较
机译:使用C_4F_8 / Ar电感耦合等离子体对熔融石英进行深干蚀刻
机译:使用电感耦合等离子体基于CL-2 / AR的GACRN干蚀刻
机译:在Si激光器上的纳米结构III-V的电感耦合等离子体干蚀刻
机译:砷化镓背面通过芯片通孔集成,使用电感耦合等离子体蚀刻。
机译:硅晶片蚀刻速率特性具有突发宽度使用150 kHz带高功率突发电感耦合等离子体
机译:使用CHF3电感耦合等离子体对锗波导的干蚀刻
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析
机译:在等离子体蚀刻电极中,由等离子体蚀刻电极和干蚀刻装置构成
机译:使用等离子体的干蚀刻系统和干蚀刻方法
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