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半导体烘烤工艺及其设备技术

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摘要

烘烤工艺是半导体的重要工艺,贯穿于整个光刻过程.半导体光刻工艺流程中很大一部分由烘烤工艺占据,对最后形成图形的质量非常关键.典型的烘烤设备采用热板和烘箱,温度精度和均匀性必须经过计量.

著录项

来源
《设备管理与维修》 |2020年第7期|110-111|共2页
作者
杨桦; 蔡颖岚; 凌瑞烽; 凌勇; 干蓉;
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作者单位

重庆声光电有限公司重庆400060;

重庆声光电有限公司重庆400060;

重庆科技学院计算机系重庆401331;

重庆声光电有限公司重庆400060;

重庆声光电有限公司重庆400060;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
光刻; 烘烤工艺; 烘箱; 热板; 温度计量;

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