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用干涉方法测量薄膜应力

         

摘要

基于基片弯曲法和牛顿环的基本原理,使用He-Ne激光器、扩束镜、凸透镜和带分光镜的移测显微镜,搭建了薄膜应力测量装置.采用直流溅射法制备了厚度为30~144 nm的银薄膜,衬底采用厚度为0.15 mm、直径为18 mm的圆形玻璃片.实验发现,薄膜厚度对银薄膜的内应力有显著的影响,在薄膜厚度很小时,随着薄膜厚度的增加,应力迅速增大,达到最大值后,随着厚度的继续增加,薄膜应力下降较快并趋于稳定值.

著录项

  • 来源
    《物理实验》 |2006年第9期|7-9|共3页
  • 作者单位

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

    北京科技大学,应用科学学院,物理系,北京,100083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    银薄膜; 应力; 基片弯曲法; 牛顿环;

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