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陈宇昕; 刘玉菲; 尚正国;
重庆大学光电工程学院 重庆400044;
重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室 重庆400044;
压电薄膜; 氮化铝钪; 磁控溅射; 工艺参数;
机译:反应磁控溅射法制备含γ-Al_2O_3相的氧化铝薄膜的热稳定性
机译:氮掺杂对反应磁控溅射法制备的Cu _2O:N薄膜空穴密度的影响
机译:磁控溅射法制备氧化铝薄膜的结构与性能
机译:磁控溅射法制备可见光响应性TiO_2薄膜光催化剂的制备,表征及其对水分解反应的光催化活性
机译:氮化铬和氮化铬铝外延膜,用于通过AC反应磁控溅射法生长α-氧化铝。
机译:反应磁控溅射法制备单相外延Cr2N薄膜及其表征
机译:用钪合金溅射靶和实验设计制备氮化铝薄膜薄膜
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<间歇磁控溅射法制备微球pt涂层的研究进展>>相似的文献
机译:通过煅烧钪化合物的氟化钪盐的钪金属和Al-Sc合金的制备方法,其形式为(NH4)2NASCF6
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
机译:制备具有共同盐结构的氮化铝包括在样品容器的密闭腔中使粉末状纳米级样品中的富氮铝化合物或铝化合物与含氮物质的混合物反应
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