一种采用磁控溅射法制备含氮二氧化钛薄膜的方法

摘要

本发明涉及一种采用磁控溅射法制备含氮二氧化钛薄膜的方法，利用二氧化钛为靶材采用磁控溅射法制备氮掺杂二氧化钛薄膜，包括以下步骤，（1）基片的准备；（2）基片的清洗；（3）金属钛薄膜的制备；（4）氮掺杂二氧化钛薄膜的制备；通过采用磁控溅射法先制得金属钛薄膜，再通过在通有氮气和氧气的退火炉中退火，从而得到氮掺杂的二氧化钛薄膜，这样的制备方法，工艺简单可控，成本低，有利于工业上大规模推广应用。