基于改进型遗传算法的薄膜厚度及光学常数反演

摘要

准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都十分重要.借助Cauchy色散模型和P阶评函数,通过薄膜透过率测量曲线,用改进的遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合,从而反演得到薄膜的厚度和光学常数.理论验证是对电子束蒸发制备的TiO2和反应磁控溅射制备的Si3N4薄膜进行测试拟合,计算得到的结果与文献报道的一致,误差小于0.5%.