机译:自限制和厚度和厚度和温度依赖性的ALD ALN薄膜光学常数
MESA+Institute for Nanotechnology University of Twente 7500 AE Enschede The Netherlands;
MESA+Institute for Nanotechnology University of Twente 7500 AE Enschede The Netherlands;
MESA+Institute for Nanotechnology University of Twente 7500 AE Enschede The Netherlands;
机译:ALD AlN薄膜的自限生长以及光学常数的厚度和温度依赖性
机译:铁电体Ba(Ti_(1-x),Ni_x)O_3薄膜中光学常数的光学透射比组成依赖性
机译:基板对Mn / sub(x)/ Sb / sub(1-x)/薄膜的光学和磁光常数的依赖性
机译:基质对Mn(x)Sb(1-x)薄膜的光学和磁光常数的依赖性
机译:氧化铝填充的Thiol处理的PbTe薄膜的结构,电学和光学特性
机译:ALD制备的亚20纳米厚TiO2薄膜的光学常数和带隙演化及相变
机译:通过等离子增强原子层沉积自限低温生长晶体AlN薄膜