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Nondestructive optical technique for simultaneously measuring optical constants and thickness of thin films

机译:同时测量薄膜的光学常数和厚度的无损光学技术

摘要

Optical systems and methods that simultaneously measure optical constants (n, k) and thickness of thin films. The systems and methods use of differential polarimetry (differential analysis of spectroscopic multi-angle reflection and ellipsometric data) to measure optical constants (n k) and thickness of ultra-thin films.
机译:同时测量光学常数(n,k)和薄膜厚度的光学系统和方法。该系统和方法使用差分偏振法(光谱多角度反射和椭圆偏振数据的差分分析)来测量光学常数(n k)和超薄膜的厚度。

著录项

  • 公开/公告号US7463355B1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EMAD ZAWAIDEH;

    申请/专利号US20030460089

  • 发明设计人 EMAD ZAWAIDEH;

    申请日2003-06-12

  • 分类号G01J4/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 19:28:44

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