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Aulit.V; 王志军;
不详;
光纤; 制造; 工艺; CVD; 热力学模型;
机译:CVD中Al和Si卤化物气态前体的热力学分析。在FBR-CVD工艺中在中等温度下沉积的回顾和近似
机译:通过使用SiCl4 / NH3的远程PECVD生长的SiNx中的硅纳米晶体产生的强白色和蓝色光致发光
机译:从下一代开始开发用于VDD工艺的CVD-Ni和CVD-Co设备,并将通过从明年春季开始优化销售气体供应方法来减少膜中的杂质。
机译:使用MTS / H2检查SiC-CVD工艺中的SiCl4添加效果
机译:实时原位化学传感,基于传感器的膜厚计量和W-CVD工艺中的工艺控制。
机译:在C-CR合金(L-605)的冷壁CVD工艺中获得的石墨烯涂层用于医疗应用
机译:水生系统平衡模型开发中的热力学,动力学和超热力学考虑
机译:用于计算气体化学系统平衡条件的IBm 7090/94程序的分析和描述
机译:用于描述预测模型的方法,用于存储预测模型描述程序的非暂时性计算机可读存储介质,以及预测模型描述设备
机译:用于测试汽车底盘的测试台,具有用于基于描述致动器特性的数学物理模型和用于描述底盘特性的数学物理模型来确定校正的模块
机译:自动化的紧急情况管理获取系统,例如消防员,具有用于在概念数据模型的帮助下存储事件描述的情况的数据库,以及用于对模型中的数据进行专题分析的分析模块
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