次世代以降シリサイドプロセス向けCVD－Ni、CVD－Co装置を開発、来春から販売ガス供給法を最適化して膜中不純物を低減

摘要

アルバック（本社·神奈川県茅ヶ崎市、諏訪秀則社長）は、半導体量産工場向けに昨年開発、販売した300mm装置「ENTRONTM－EXW300」シリーズに、三次元構造デバイス向けCVD－Ni、CVD－Coプロセス処理が出来る新装健「づENTRONTM-EX W300 CVD-Ni／CVD-Co」を開発、来年4月から販売を開始する。