采用电子束全息照相的新原子级微细图形形成法

摘要

日本电气公司与大阪大学工程部应用物理系的志水隆—教授共同研究并证实了采用电子束全息照相形成微细图形的可能性获得成功。这便是采用高干涉性的热电场放射型电子枪，以40KeV的加速电压在有机感光膜PMMA(有机玻璃)上形成周期为100nm的光刻图形，证实了采用电子柬全息照相形成超微细图形的可能性。人们期待该技术能作为具有从纳米级到原子级周期结构的下一代纳米级器件的微细图形形成技术应用。