恩诺沙星分子印迹聚合物膜的制备及吸附性能研究

摘要

采用表面印迹法,以恩诺沙星为模板,甲基丙烯酸(MAA)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,在聚苯乙烯酶标板表面直接合成恩诺沙星分子印迹聚合物膜.通过傅立叶红外光谱分析、电镜扫描、吸附平衡结合实验、Scatchard方程分析及吸附动力学实验对恩诺沙星印迹聚合物膜进行性能表征.合成的分子印迹聚合物膜具有很好的印迹效果,对恩诺沙星有较高的特异性吸附,且传质速率快,由Scatchard方程分析可知,聚合物膜中含有两类吸附位点,其中高亲和力位点的平衡解离常数(Kd)为19.49 μg/mL,饱和吸附容量(Qmax)为12.98 μg/mL,低亲和力位点的Kd为277.78 μg/mL,Qmax为98.14 μg/mL,吸附位点的异质性并不会影响聚合物膜应用于竞争性免疫吸附分析.通过该方法合成的恩诺沙星特异性识别聚合物膜可以作为仿生抗体,应用于竞争性免疫吸附分析检测恩诺沙星在食品中的残留.