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胡学骏; 赵永龙;
不详;
光刻伺服盘; 高频溅射; 刻蚀; 工艺参数;
机译:采用液面自组织的方法在洁净的玻璃片表面铺设单层六方密排的聚苯乙烯胶体球阵列,通过改变等离子 刻蚀的时间实现对胶体小球的直径控制,结合离子溅射Au膜和磁控溅射MoO2膜,最终构筑成为一种新颖的MoO2/Au微纳阵列结构,利用扫描电镜对所合成材料进行形貌表征;同时重点利用接触角测量仪对 微纳阵列薄膜的浸润性进行研究,分析水在微纳阵列表面所形成的接触角的角度变化,结果显示沉积 MoO2/Au微纳阵列比相应的Au微纳阵列更加亲水,有利于材料在水溶液中进行电化学反应。
机译:高频变化对双频叠加电容耦合等离子体中ArF光刻胶和氮化硅层刻蚀特性的影响
机译:高效的连续波激光刻蚀和高速调制的1.3μmAlGaInAs VCSEL具有良好的高温激光刻蚀性能
机译:薄膜特性对溅射钼薄膜激光刻蚀行为的影响
机译:用于半球成像器的a-硅:氢TFT被动像素传感器的无掩模激光刻蚀光刻技术。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:利用硅干刻蚀法制备具有低栅极漏电流的溅射门控硅场发射极阵列
机译:反应离子刻蚀和溅射刻蚀诱导Gaas表面损伤
机译:半导体工艺参数确定方法,半导体工艺参数确定系统和半导体工艺参数确定程序
机译:自动检测最佳光刻工艺参数的设备以及使用该设备自动检测最佳光刻工艺参数的方法
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