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SnO2纳米晶薄膜栅FET式气敏元件的研制

         

摘要

利用溶胶-凝胶法合成出纳米晶SnO2薄膜,该薄膜可以利用化学腐蚀方法光刻腐蚀,因此采用传统硅平面工艺可以制作出纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件,实现了制备纳米晶材料的溶胶-凝胶工艺与硅平面工艺的兼容.对器件的测试结果表明,纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件可以在常温下工作,元件的漏电流在乙醇气体中减小,掺杂镧以后,漏电流变化幅度增大.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2000年第2期|75-78|共4页
  • 作者单位

    吉林大学电子工程系,集成光电子国家重点实验室吉林大学分区,长春,130023;

    中国科学院激发态物理开放研究实验室,长春,130021;

    吉林大学电子工程系,集成光电子国家重点实验室吉林大学分区,长春,130023;

    吉林大学电子工程系,集成光电子国家重点实验室吉林大学分区,长春,130023;

    吉林大学电子工程系,集成光电子国家重点实验室吉林大学分区,长春,130023;

    吉林大学电子工程系,集成光电子国家重点实验室吉林大学分区,长春,130023;

    中国科学院激发态物理开放研究实验室,长春,130021;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
  • 关键词

    纳米晶薄膜; 场效应晶体管; 气敏元件;

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