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光敏微晶玻璃-PDMS微流控芯片制备及电渗性能研究

         

摘要

以光敏微晶玻璃和PDMs为材料,通过光化学加工和等离子体改性,制备了光敏微晶玻璃-PDMs微流控芯片,并对该芯片的电渗性能进行了初步的研究.结果表明,该芯片的制作工艺简单,且电渗性能稳定.芯片的电渗速度随缓冲液浓度的增大而增加,表面活性剂的加入可以改善电渗速度,电压在1.8 kV内与电渗速度具有线性关系.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2008年第5期|24-26|共3页
  • 作者单位

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    绿色化工过程省部共建教育部重点实验室,武汉,430074;

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    湖北省等离子体化学与新材料蕈点实验室,武汉430074武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430074;

    绿色化工过程省部共建教育部重点实验室,武汉,430074;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 材料;
  • 关键词

    光敏微晶玻璃; PDMS; 微流控芯片; 电渗;

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