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玻璃-PDMS微流控芯片的电渗性能研究

             

摘要

以玻璃为基片的微流控芯片在制造上存在工艺复杂、加工周期长、成本高等问题。实验以载玻片和PDMS为原材料,采用湿法刻蚀和浇筑的方法在玻璃和PDMS上制备出较佳结构的微沟道,并分别与PDMS和玻璃不可逆封接,获得了玻璃-PDMS(沟道在玻璃上,A.玻璃-PDMS)、玻璃-PDMS(沟道在PDMS上,B.玻璃-PDMS)两种芯片。对A.玻璃-PDMS、B.玻璃-PDMS两种芯片进行了伏安特性研究,得出芯片的线性伏安特性的最高电压分别为1990 V、1050 V,此时所对应的场强分别为499 V·cm-1、263 V·cm-1。利用电流监测对芯片的电渗性能进行分析,发现电渗流速度随缓冲溶液pH值的升高而增大,表面活性剂SDS的添加能显著提高电渗速度的大小和稳定性。%Manufacturing of microfluidic chip based on glass has many problems like complex craft,long-term pro-cessing cycle and high cost. This experiment improves these problems with glass and PDMS as raw materials,makes well-structured micro-channels on the glass and PDMS in the way of wet corrosion,and obtains two chips by irreversible seal-ing. In the research,glass/PDMS chip(channel in the glass)and glass/PDMS chip(channel in PDMS)are made and stud-ied their volt-ampere characteristics. It is concluded that the highest voltage of the chip linear volt-ampere characteristics are 1 990 V,1 050 V,respectively,in accordance with the field strength of 499 V·cm-1and 263 V·cm-1. The electro-os-mosis properties of microfluidic chips are analyzed by the method of current monitoring,whereby it is found that the elec-tric seepage velocity grows with the increase of buffer solution pH and adding surfactant SDS can dramatically raise the velocity and stability of the electro-osmotic.

著录项

  • 来源
    《真空与低温》 |2016年第4期|201-204,209|共5页
  • 作者单位

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

    武汉工程大学 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;

    武汉 430074;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 无机质材料;
  • 关键词

    电渗; 微流控芯片; PDMS;

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