高速偏放系统噪声抑制技术的研究

摘要

为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了具体的噪声抑制技术解决方法.进而可使整机系统的技术指标得到很好的提高和改进.这项研究对今后该项目的研制有一定的参考意义.