氨气热处理对TiO2自组装薄膜光催化性能的影响

摘要

利用静电自组装工艺制备了结构有序的TiO2／PSS纳米多层膜，并在不同工艺条件下对薄膜进行热处理。利用UV—ViS吸收光谱、XRD、α台阶膜厚测试仪等手段对薄膜的性能进行了表征，研究了工艺条件对薄膜光催化性能的影响。结果表明：TiO2／PSS纳米多层膜在450℃氨气气氛中热处理后具有很好的光催化性能，薄膜的响应深度约为120nm，热处理过程中氨气流量小所得薄膜光催化性能佳。