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付志强; 蔡育平; 袁镇海; 林松盛;
广州有色金属研究院,;
真空阴极电弧沉积; (Ti,Al)N涂层; 涂层刀具;
机译:过滤阴极真空电弧沉积Ti-Al-C薄膜的微观结构变化
机译:脉冲偏压阴极真空电弧沉积Ti-Al-N薄膜
机译:使用Ti-Al-Y阴极从过滤真空电弧等离子体沉积的周期多层金属/氮化物涂层的结构和性能
机译:通过过滤的阴极真空电弧和薄膜介质,铜铝镍形状记忆合金和表面纹理化的硅的纳米机械性能进行表面改性。
机译:热真空电弧法(TVA)沉积的铂基薄膜的表征
机译:分离阴极过滤真空电弧沉积制备复合Ti-al-N涂层
机译:在多阴极溅射沉积系统中在陶瓷上沉积粘附的ag-Ti双相薄膜
机译:阴极电弧等离子体沉积沉积超硬TiAlSiN薄膜
机译:施加导电且光学透明的金属层,方法是在真空下通过电弧放电将金属层沉积在基板表面上,该电弧放电连接在靶之间作为阴极
机译:连续熔化和蒸发固体材料的系统和方法,气相沉积涂层系统,连续送入电极,电弧放电设备。通过气相沉积涂层产生电弧放电以电离气相涂层的方法。通过汽相沉积测量涂层系统中蒸发器的电离度和蒸发速率,并去除附着在真空镀膜上的真空室中沉积的材料。
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