磁控溅射中工艺参数对ZnO：Al薄膜性能的影响

摘要

利用射频磁控溅射法，采用氧化锌铝（98％ZnO＋2％Al2O3）为靶材，在普通载玻片上制备了ZAO（ZnO：Al）薄膜，研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析，采用分光光度计和电阻率测试仪对薄膜的光电学性能进行了测试。结果表明，当溅射功率为120W、衬底温度为300℃、工作气压为0．5Pa时制得的薄膜具有良好的光电学性能，可见光平均透过率为88．21％，电阻率为8．28×10-4Ω·cm。