摘要:用射频磁控溅射技术制备了[SiO<,2>(t<,1>)/Fe<,25>Ni<,75>(t<,2>)]<,N>多层膜系列(其中t<,1>和t<,2>分别代表SiO<,2>层和Fe<,25>Ni<,75>层的厚度,N代表层数).研究发现,对[SiO<,2>(3.3nm)/Fe<,25>Ni<,75>(t<,2>)]<,10>系统,当Fe<,25>Ni<,75>层厚度小于2.4nm时,Fe<,25>Ni<,75>层从连续变为不连续;在t<,2>=2.1nm时,隧道磁电阻(TMR)有极大值,为-0.64﹪,当温度高于180K时,1nR正比于T<'-1/2>,表明导电机制为热激发的隧穿导电;对[SiO<,2>(1.8nm)/Fe<,25>Ni<,75>(1.6nm)]<,N>系统,发现磁电阻和电导率先随着层数的增加而增加,然后趋于饱和.