退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
高翔; 周海; 黄传锦; 冯欢; 崔志翔;
江苏大学;
镇江212013;
盐城工学院;
盐城224051;
蓝宝石衬底; CMP; 材料去除率; 压力; 平衡;
机译:硅化学机械抛光材料去除特性的实验研究
机译:硅片化学机械抛光中材料去除率的特性研究
机译:化学机械抛光中垫的特性及垫磨损对材料去除均匀性影响的实验分析
机译:化学机械抛光中材料去除和表面粗糙度的颗粒模型。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:垫缓冲过程对硅化学机械抛光中材料去除特性的影响
机译:用III-V氮化物材料集成光学泵浦Cr和Ti掺杂蓝宝石衬底
机译:在半导体材料的制造中从化学机械抛光浆料中去除杂质包括使用磁性过滤器去除磁性颗粒,然后去除非磁性颗粒
机译:制备涂覆有半导体材料的蓝宝石衬底的方法,通过该方法可获得的涂覆的蓝宝石衬底以及这种衬底在发光二极管中的用途
机译:研究2或3相系统中的印刷材料的合并过程-涉及液滴研究方法和液滴去除相的数字图像测量
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。