小型化热丝CVD金刚石膜沉积设备的研究与开发

摘要

对传统HFCVD金刚石膜沉积设备进行小型化改进,分析了传统沉积设备在真空系统和衬底机构结构上的不足之处;介绍了小型化CVD金刚石膜沉积设备的系统构成;详细描述了该小型化设备的真空系统和衬底摆动机构.该系统具有均匀的表面温度场和很高的运行稳定性,可以用于纳米金刚石薄膜和金刚石厚膜的沉积,制备的纳米金刚石薄膜晶粒大小基本上都在200nm以下,纳米硬度为(450～700)GPa;沉积的金刚石厚膜直径达93mm,晶粒完整均匀.