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邹海兴;
投影光刻; 干涉效应; 激光光束;
机译:投影掩膜,薄光刻胶层和干涉效应
机译:投影电子束光刻中的空间电荷效应:SCALPEL光刻证明系统的结果
机译:SiO_2单层,用于减少硅上深光刻胶结构的干涉光刻中的驻波效应
机译:用于曝光控制投影光刻的二维实时干涉监测系统
机译:使用投影干涉条纹干涉仪的显微表面形貌,并通过数字分析进行相位检索。
机译:使用自对准和激光干涉光刻技术制造的多栅极ZnO金属氧化物半导体场效应晶体管的性能增强
机译:用干涉法合成低k1投影光刻
机译:发光二极管投影微立体光刻三维制造系统的设计与优化
机译:用于微光刻领域中的投影曝光系统的天文望远镜光学干涉测量的测量装置,具有将参考波与束重叠形成的检测装置记录干涉图
机译:使用螺钉将光学元件支架固定在一起,用于微光刻中的投影透镜,方法是使用干涉测量仪测量支架表面区域,并改变扭矩以获得均匀的干涉图案
机译:用于微光刻投影曝光系统的光学系统操纵方法,涉及通过压差引起透镜的偏振效应,其中该效应部分地补偿了偏振分布的干扰
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