衬底温度对脉冲激光沉积制备ZnO性能的影响

摘要

脉冲激光沉积技术易于获得高质量的氧化物薄膜,目前已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术.为了获得高质量的ZnO薄膜,采用脉冲激光沉积(KrF准分子激光器:波长248nm,频率5Hz,脉冲宽度20ns)方法,在氧气气氛中以高纯锌(含Zn的质量分数为0.99999)为靶材、在单晶硅和石英衬底表面得到了ZnO薄膜.通过X射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了衬底温度变化对其性能的影响.结果表明,使用脉冲激光沉积法在600℃下可以制备出(002)高度结晶取向、透过率高于75%的近带边发射的高质量ZnO薄膜.