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张瑞丽; 杜红文; 张亚萍; 杜平凡; 问明亮; 张秀芳; 席珍强;
浙江理工大学材料工程中心;
浙江机电职业技术学院;
PECVD; 碳化硅薄膜; 正交实验; 减反射性能;
机译:PECVD制备的非晶碳化硅薄膜的性能
机译:中子辐照对PECVD技术制备的非晶碳化硅和氮掺杂碳化硅薄膜电学特性的影响
机译:用VHF-PECVD技术制备的碳化硅薄膜的表征
机译:PECVD法制备氧氮化硅薄膜的内部应力和光机械特性的光学干涉法研究
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:衬底温度对pECVD制备氮化硅薄膜性能的影响
机译:反应离子束溅射制备碳化硅薄膜。
机译:在硅上进行氧化物和氮化物减反射涂层的低温等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法
机译:膜产品和膜产品的生产方法,溶胶-凝胶法的组成和制备方法,溶胶-凝胶法的组成,铝溶胶-凝胶法的组成和制备方法,铝-溶胶-法的组成和铜的制备方法溶胶-凝胶过程组成及结构制备方法的研究
机译:硅薄膜隧道结层通过PECVD及其薄膜电池制备薄膜硅和块状结晶硅串联太阳能电池的方法
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