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弥谦; 王庆喜; 惠迎雪;
西安工业大学,光电工程学院,西安,710032;
非平衡磁控溅射(UBMS); TiCxN1-x薄膜; 硬度; 摩擦系数;
机译:直流非平衡磁控溅射法制备的F:Si-C-N薄膜的微结构,力学性能和润湿行为
机译:直流磁控溅射沉积沉积的备用合金薄膜中微结构和磁性的比较和高功率脉冲磁控溅射
机译:非平衡磁控溅射法在有机玻璃薄膜晶体管上制备的铝掺杂ZnO薄膜的特性
机译:非平衡磁控溅射制备的氧氮化铌薄膜的低温性能
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:磁控溅射对CdTe薄膜微结构光学和电学性质的基靶距离调节
机译:用RF磁控溅射对发光装置的各种掺杂浓度制备的Ti掺杂In2O3薄膜的性能分析
机译:闭合场非平衡磁控溅射 - 用于紧固件的环境安全腐蚀和磨损涂层
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:非平衡磁控溅射系统和方法
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