溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响

摘要

对在溅射状态下制得的FeSiAl薄膜的结构和磁性能随溅射工艺参数如溅射功率、溅射气压、靶间距等的变化规律进行了讨论与分析.实验结果表明,溅射态下的FeSiAl薄膜具有(220)织构bcc-α无序相,其4πMs可以达到9.9×106 A/m(9.9 kGs).较高的溅射功率、合适的溅射Ar气压以及靶间距都有利于降低薄膜的矫顽力Hc.