薄膜中正常晶粒生长膜厚效应的理论分析

摘要

根据自由表面在晶界处的开槽现象,对薄膜中正常晶粒生长膜厚效应进行了理论分析.结果表明,正常晶粒生长被塞积时的平均晶粒尺寸与膜厚成正比.