膜厚对FePt薄膜择优取向生长和磁性能的影响

摘要

采用直流磁控溅射的方法在Si基片上制备了FePt薄膜,研究了膜厚对FePt薄膜结构与磁性能的影响。结果表明:在600℃热处理1 h,FePt薄膜由无序的面心立方相向有序的面心四方相的转变基本完成;随着膜厚减小至40 nm,在没有缓冲层、不使用有取向衬底、不对基片加热的情况下,表现出明显的(001)择优取向,但膜越薄表面越容易出现空洞。磁性能测试表明,越薄的FePt薄膜的矫顽力越大,40 nm厚的薄膜的矫顽力可达到~15.9 kOe。膜厚的减小对FePt薄膜的择优取向生长和磁性能具有较大的提升作用。