机译:退火温度和膜厚对NiO膜表面形貌,择优取向和介电性能的影响
Tianjin Univ Sch Microelect Tianjin 300072 Peoples R China;
NiO films; X-ray photoelectron spectroscopy (XPS); Surface morphology; Preferential orientation; Polarized NiO (111) plane; Dielectric property;
机译:厚度和退火温度对逐层聚对苯乙炔+十二烷基苯磺酸盐薄膜光学性质和表面形态的影响
机译:通过在不同基板上进行低温退火低温生长的ZnO薄膜来制造带有外露孔的优先取向ZnO薄膜
机译:退火温度对SSCVD法优先非极性面取向ZnO薄膜性能的影响
机译:高温下具有优先晶体取向的铋层结构氧化物薄膜的介电性能
机译:掺杂和不掺杂铌酸铅铟:铌酸镁铅的温度稳定性得到改善的高介电常数陶瓷和薄膜的研究
机译:原子层沉积生长La2O3薄膜的膜厚和退火温度表征结构性能。
机译:退火温度对溅射TiAlSiN薄膜的形貌,机械,表面化学键合和太阳选择性特性的影响