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张龙; 董玮; 张歆东; 刘彩霞; 陈维友; 徐宝琨;
集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区;
微反射镜; {111}面; 湿法腐蚀; 粗糙度; 氢氧化钾溶液;
机译:工艺参数对硅熔体直接生长的柱状结构硅片厚度的影响
机译:使用(110)图案化绝缘体上的硅工艺制造用于微机械电容式倾角仪的无形态缺陷的垂直电极
机译:用于集成微光系统的(110)硅上的全硅波导和体蚀刻对准结构
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:外延原位SiO2钝化(100)利用TaSiOx原子层沉积工艺制备和(110)InGaAs
机译:激光区生长在带状带(RTR)工艺,硅片生长发育,为低成本硅太阳能阵列的大面积硅片任务。技术季度报告第6号,10月10日 - 1977年12月31日
机译:对于低成本硅太阳能项目的大面积硅片工艺的激光区域生长进行了拉伸 - 硅(RTR)工艺硅片生长开发
机译:<110>散装硅片中使用P +硅悬臂制造SPM探针尖端的方法
机译:利用硅片制造工艺用硅渣制备液压化合物
机译:绝缘体(SOI)硅片上的硅及其生产工艺
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