蓝宝石衬底表面的高精密加工工艺

牛新环; 檀柏梅; 赵晓宏; 刘玉岭

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蓝宝石衬底表面的高精密加工工艺

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为了获得优化的CMP参数变化,对实验进行了设计,并采用CMP方法在C6382I-W/YJ单面抛光机上对蓝宝石衬底表面进行了加工.根据蓝宝石衬底特性,选择了碱性抛光液,并选用SiO2胶体作为磨料.依据高去除的目的,对如底盘转速、抛光液流量、温度及压力等不同工艺参数进行了研究.根据实验结果,确定了蓝宝石衬底表面的CMP最佳工艺参数.

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来源
《半导体学报》 |2007年第z1期|48-51|共4页
作者
牛新环; 檀柏梅; 赵晓宏; 刘玉岭;
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作者单位

河北工业大学信息工程学院;

微电子研究所;

天津;

300130 河北工业大学信息工程学院;

微电子研究所;

天津;

300130 河北工业大学信息工程学院;

微电子研究所;

天津;

300130 河北工业大学信息工程学院;

微电子研究所;

天津;

300130;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类表面处理;
关键词
蓝宝石衬底; 高精密加工; 化学机械抛光; 碱性抛光液; 工艺;

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