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常压化学气相沉积法制备二维六方氮化硼

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摘要

采用常压化学气相沉积(APCVD)法制备二维六方氮化硼的基本方法,系统探究衬底抛光处理、衬底与前驱体间距、前驱体加热温度、生长温度等对六方氮化硼生长的影响,通过优化调控生长因子,成功制备出高质量单层六方氮化硼薄膜.

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来源
《曲靖师范学院学报》 |2017年第3期|23-29|共7页
作者
姚茜; 陈珊珊;
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作者单位

厦门大学物理科学与技术学院,福建厦门361005;

厦门大学物理科学与技术学院,福建厦门361005;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
常压化学气相沉积; 六方氮化硼; 二维材料; 单原子层;

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