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唐见波; 石玉龙;
青岛科技大学材料科学与工程学院;
氮化碳; 等离子体; 化学气相沉积;
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法制备氮化碳薄膜的合成与表征
机译:对N 2:(N 2 + CH 4)的作用的研究在低温下通过等离子体增强的化学气相沉积在疏水纳米结构氢化氮化碳氮化碳薄膜的比例。
机译:N2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积法初步合成氮化碳薄膜:放电和所得薄膜的表征
机译:通过电感耦合等离子体化学气相沉积制备的氮化碳膜的性能
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:通过电容耦合射频等离子体射流制备的氮化碳薄膜
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜
机译:碳氧化物薄膜和氧化氮化碳薄膜的等离子体分离包括生产方式的原料气体。
机译:等离子体化学气相沉积设备的清洁方法,半导体薄膜的形成方法,光电转换元件的制造方法以及等离子体化学气相沉积设备
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
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