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孟兆升; 相炳坤; 王仕杰; 李文帅; 熊鹰; 解晖; 余琦佩;
南京航空航天大学机电学院;
氮化碳; 直流电弧等离子体喷射; 沉积; 刻蚀;
机译:直流电弧等离子体喷射CVD制备氮化碳膜
机译:直流电弧等离子体喷射化学汽相淀积法制备高质量金刚石薄膜
机译:薄型金刚石薄膜的残余应力分布及其在气体回收模式下使用直流电弧等离子体喷射制备厚自由式金刚石薄膜的影响
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:不同原料气体直流电弧等离子体制备金刚石薄膜的比较研究
机译:氢/氮/氨混合物的低功率直流电弧喷射操作。
机译:直流等离子体喷射化学气相沉积法生产金刚石
机译:直流电弧故障断路器的故障检测仪,直流电法检测链条保持链的电弧故障
机译:等离子体增强的化学气相沉积法,从环状有机硅氮前体中氮化硅薄膜
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