机译:N2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积法初步合成氮化碳薄膜:放电和所得薄膜的表征
Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;
F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;
Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;
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Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;
F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;
Centre de Recherche Public Gabriel Lippmann DÉpartement Science et Analyse des Materiaux (SAM) 41 rue du Brill-L-4422 Belvaux Luxembourg;
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Centre de Recherche Public Gabriel Lippmann DÉpartement Science et Analyse des Materiaux (SAM) 41 rue du Brill-L-4422 Belvaux Luxembourg;
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carbon nitride films; microwave plasma assisted chemical vapour deposition (MPACVD); optical emission spectroscopy (OES); scanning electron microscopy (SEM); transmission electron microscopy (TEM);
机译:脉冲微波等离子体辅助化学气相沉积法沉积氮化硅碳薄膜
机译:>硅氮化硅薄膜沉积脉冲微波等离子体辅助化学气相沉积 strong>
机译:N-2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积中硅对CNx和SiCN薄膜生长机理的作用
机译:DC辉光放电等离子体化学气相沉积的氮化碳薄膜的生长
机译:氮对微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石薄膜生长的影响
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:N2:(N2 + CH4)比对低温等离子体增强化学气相沉积法制备疏水纳米结构氢化碳氮化物薄膜的研究
机译:通过微波等离子辅助化学气相沉积生长的金刚石薄膜。