首页> 外文期刊>Plasma processes and polymers >Preliminary Synthesis of Carbon Nitride Thin Films by N2/CH4 Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition: Characterisation of the Discharge and the Obtained Films
【24h】

Preliminary Synthesis of Carbon Nitride Thin Films by N2/CH4 Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition: Characterisation of the Discharge and the Obtained Films

机译:N2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积法初步合成氮化碳薄膜:放电和所得薄膜的表征

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

著录项

  • 来源
    《Plasma processes and polymers》 |2007年第1期|210-214|共5页
  • 作者单位

    Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;

    F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;

    Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;

    F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;

    Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;

    F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;

    Centre de Recherche Public Gabriel Lippmann DÉpartement Science et Analyse des Materiaux (SAM) 41 rue du Brill-L-4422 Belvaux Luxembourg;

    Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;

    F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;

    Centre de Recherche Public Gabriel Lippmann DÉpartement Science et Analyse des Materiaux (SAM) 41 rue du Brill-L-4422 Belvaux Luxembourg;

    Laboratoire de Physique des Milieux IonisÉs et Applications (LPMIA) UMR CNRS 7040 FacultÉ des Sciences et Techniques UniversitÉ de Nancy Boulevard des Aiguillettes B.P. 239;

    F-54506 Vandoeuvre-lÈs-Nancy cedex France;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    carbon nitride films; microwave plasma assisted chemical vapour deposition (MPACVD); optical emission spectroscopy (OES); scanning electron microscopy (SEM); transmission electron microscopy (TEM);

    机译:氮化碳薄膜;微波等离子体辅助化学气相沉积(MPACVD);光发射光谱法(OES);扫描电子显微镜(SEM);透射电子显微镜(TEM);

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号