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刘锋; 莫建良; 张溪文; 韩高荣;
浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027;
硅/碳化硅复合镀膜玻璃; 退火处理 ; 光学性能 ; 光污染 ;
机译:NO和成形气体退火处理对4H-SiC MOS结构界面质量和可靠性的影响
机译:退火对4H-SiC衬底上作为UV增透膜的Al_2O_3 / SiO_2薄膜的光学和结构性能的影响
机译:热退火对SiC-C纳米复合材料纳米结构和形状转变的影响
机译:多重表征技术研究离子注入和退火对全应变SiC和SiC:P薄膜的影响
机译:先驱体衍生陶瓷制备的Si3N4 / SiC纳米复合材料的加工,微结构和力学性能。
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:退火对4H-SiC衬底上作为UV抗反射涂层的Al 2 inf> O 3 inf> / SiO 2 inf>薄膜的光学和结构性质的影响
机译:siC衬底上生长的外延3C-siC,4H-siC和6H-siC薄膜缺陷的研究
机译:控制sic表皮薄膜的多态性的方法及由该方法制备的sic表皮薄膜的多态性
机译:Sic薄膜的制造方法和Sic多层薄膜结构的制造方法
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