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黄君凯; 易清明; 刘涛;
暨南大学电子工程系;
MNOS结构; 界面陷阱; 深能级瞬态谱; 复合介质膜;
机译:DLTS和电导瞬态技术研究ECR沉积和快速热退火氮化硅Al / SiN_x:H / InP和Al / SiN_x:H / In_0.53Ga_0.47As结构的界面质量
机译:C-DLTS界面缺陷在AL 0.22 CE:INF> GA 0.78 CE:INF> N / GAN HEMTS ON SIC:空间E2陷阱的位置
机译:外延PR_(0.7)SR_(0.3)MNO_3 / LA_(0.5)CA_(0.5)MNO_3双层结构的表面和界面显微组织
机译:使用门控霍尔法提取InGaAs金属氧化物半导体结构中的载流子迁移率和界面陷阱密度。
机译:界面La0.7Sr0.3MnO3 / Eu0.45Sr0.55MnO3异质结构中界面诱导的自发正负交换偏置效应
机译:界面掺杂mNOs结构中的电荷陷阱
机译:半导体-介电界面结构的界面陷阱密度的非接触测定
机译:栅氧化物的界面陷阱密度的测试结构和方法
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