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徐静平; 于军;
华中理工大学电子科学与技术系;
MOSFET; 断态栅电流; 氮化; 氧化; 温度特性;
机译:具有氮化氧化物栅极电介质的n沟道MOSFET中的断态栅极电流
机译:高k栅介质的纳米级MOSFET的断态泄漏电流特性及机理分析
机译:采用超薄氮化栅氧化物的MOSFET栅极漏电流降低模型
机译:非对称栅氧化层厚度技术可降低纳米级单栅SOI MOSFET的栅感应漏电流
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:具有多个外延层的150–200 V分离栅沟道功率MOSFET
机译:带有薄氮化栅氧化物的双栅CMOSFET中应力引起的泄漏电流
机译:用电离辐射和Fowler-Nordheim应力生成氮化氧化物栅介质中的界面态
机译:-利用MOSFET中的栅诱导漏极漏电流来控制栅氧化损伤的局部热退火方法
机译:减少薄栅氧化物MOSFET中的栅感应漏极泄漏电流的方法和装置
机译:减少薄栅氧化物MOSFET中的栅感应漏漏电流的方法和装置
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