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关于溅射条件对RF溅射Al2O3膜应力的影响的研究

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cqvip:本文简述了淀积于基片上的薄膜中的应力的计算理论的演变过程.评价了每种计算公式的优缺点.这些方法统称为"弯梁法".详细报导了溅射条件对溅射Al_2O_3膜应力的影响的实验结果.

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来源
《计算机研究与发展》 |1992年第7期|50-55|共6页
作者
宋庆山;
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作者单位

无;

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正文语种 chi
中图分类 TN304.21;
关键词
溅射; Al2O3膜;

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