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章吉良; 李明;
不详;
射频溅射; 介电强度; 沉积速率; 氧化铝薄膜;
机译:薄膜沉积速率对DC磁控溅射钨 - 铼薄膜热电偶热电输出的影响
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:用单一AISI 304奥氏体不锈钢源在柔性基板上溅射三元FeCrNi马氏体薄膜:沉积速率对结构和磁性的影响
机译:基板温度对反应性直流溅射技术制备的氧化铝薄膜沉积速率和光学性能的影响
机译:高k HfO2栅介质的射频溅射ZnO薄膜晶体管制造条件的优化。
机译:Al2O3缓冲层对溅射VO2薄膜性能的影响
机译:受控沉积速率对MEMS应用溅射Ti薄膜力学性能的影响
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:用于沉积非晶态IGZO薄膜的溅射装置,使用该薄膜的电子设备的基板以及制造能够提高沉积速率的显示装置的方法
机译:混合溅射阴极和使用相同的,能够控制表面电阻,透射率,沉积速率和薄膜厚度的方法沉积低温透明导电膜的方法
机译:带有圆柱形圆柱磁体的磁控管溅射,可通过增加腐蚀的均匀性来增加薄膜的沉积速率
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